Kestabilan Silika koloid dengan saiz zarah yang besar berbeza dalam persekitaran yang berbeza kerana pelbagai faktor. Dalam media akueus, silika koloid dengan saiz zarah yang besar mempunyai tenaga permukaan yang lebih rendah daripada koloid zarah kecil kerana saiz zarahnya yang lebih besar, yang membawa kepada penyebaran yang lemah dalam air dan aglomerasi mudah. Apabila nilai pH berkurangan atau kepekatan garam meningkat, penolakan elektrostatik antara zarah silika koloid melemahkan, kestabilan zarah berkurangan, dan risiko pemendakan atau pengagregatan meningkat.
Dalam larutan akueus, apabila kekuatan ionik tinggi, elektrolit dalam larutan meneutralkan caj pada permukaan koloid, melemahkan penolakan elektrostatik antara zarah, dan dengan itu mempercepatkan pengagregatan zarah. Untuk menyelesaikan masalah ini, surfaktan atau pengubah sering digunakan untuk menstabilkan zarah. Aditif ini boleh membentuk filem pelindung dengan menyerap permukaan zarah, mengurangkan hubungan langsung antara zarah, dengan itu meningkatkan penyebaran dan kestabilan zarah.
Dalam pelarut organik, kestabilan silika koloid dengan saiz zarah besar dipengaruhi oleh polaritas pelarut dan ciri -ciri permukaan koloid. Untuk pelarut organik kutub, seperti alkohol dan keton, kestabilan silika koloid biasanya miskin, kerana interaksi antara permukaan silika dan molekul pelarut ini tidak kuat, yang mudah membawa kepada pengagregatan zarah. Dalam pelarut bukan kutub, penyebaran zarah akan lebih buruk disebabkan oleh interaksi yang lemah antara permukaan zarah silika dan pelarut. Dalam kes ini, pengubahsuaian permukaan menjadi cara yang berkesan untuk meningkatkan kestabilan.
Suhu juga mempunyai kesan penting terhadap kestabilan silika koloid dengan saiz zarah yang besar. Umumnya, silika koloid dengan saiz zarah yang besar lebih stabil dalam persekitaran suhu tinggi, terutamanya dalam persekitaran anhydrous atau kering, kerana suhu tinggi tidak menyebabkan penghidratan zarah silika dan tarikan antara zarah agak kecil. Walau bagaimanapun, jika suhu terlalu tinggi, ia boleh menyebabkan sintering antara zarah silika, mengakibatkan perubahan saiz zarah, dengan itu mempengaruhi prestasinya.
Dalam persekitaran berasid dan alkali, kestabilan silika koloid dengan saiz zarah besar dipengaruhi oleh pH. Di bawah keadaan pH yang rendah, permukaan zarah silika akan mempunyai caj positif yang kuat, yang mudah berinteraksi dengan ion negatif dalam penyelesaian untuk membentuk ikatan hidrogen atau daya van der Waals, dengan itu menggalakkan agregasi zarah. Pada masa yang sama, nilai pH yang rendah juga akan menjejaskan pengionan kumpulan permukaan silika, seterusnya mengurangkan kestabilannya. Sebaliknya, di bawah keadaan pH yang tinggi, permukaan zarah silika mungkin mempunyai caj negatif, yang meningkatkan penolakan elektrostatik antara zarah dan menggalakkan penyebaran zarah. Untuk meningkatkan kestabilan silika koloid dengan saiz zarah yang besar dalam persekitaran berasid dan alkali, penyebaran zarah dapat dioptimumkan dengan menyesuaikan nilai pH, dan pengubah permukaan dapat dipilih dengan sewajarnya untuk mengelakkan pengagregatan zarah atau hujan di bawah keadaan pH yang melampau .3